Leírás
A portrékészítéshez ideális FUJIFILM XF 56 mm f/1.2 R WR 85 mm-es egyenértékű objektív időjárástól védett konstrukcióban készült.
Az optikai kialakítás aszférikus és rendkívül alacsony szórású elemeket is alkalmaz, amelyek segítenek csökkenteni a különféle aberrációkat, színfoltokat és torzításokat a nagy élesség és tisztaság elérése érdekében. Szuper EBC bevonat is használatos a becsillanás és a szellemkép csökkentése érdekében. Jobb kontraszt és színpontosság jellemzi világos és ellenfényes körülmények között.
A lekerekített, tizenegy lapátos membrán sima és kellemes életlen fényeket biztosít. Ebbe a teljesen fém lencsébe kilenc gumitömítést építettek, hogy megóvja a portól és a nedvességtől, miközben teljes funkcionalitást biztosít akár 14°F-os hőmérsékleten is. A fluorbevonatú elülső elemet víztaszító bevonatú, nem engedi megtapadni az ujjlenyomatokat és szennyeződéseket, ezáltal segít megőrizni a képminőséget a zord időjárás ellenére is.